国家知识产权局：将修改完善集成电路布图设计保护条例 适应大规模集成电路发展需要

财联社4月24日讯，国务院新闻办公室今日上午10时举行新闻发布会，国家知识产权局局长申长雨介绍2022年中国知识产权发展状况，并答记者问。申长雨表示，将统筹推进各类知识产权法律法规和制度规则的制修订工作。修改完善集成电路布图设计保护条例，适应大规模集成电路发展需要，助力芯片产业做大做强，服务数字经济更好发展。

国家知识产权局：将修改完善集成电路布图设计保护条例 适应大规模集成电路发展需要

申长雨在新闻发布会上表示，将统筹推进各类知识产权法律法规和制度规则的制修订工作。其中，修改完善集成电路布图设计保护条例，适应大规模集成电路发展需要，助力芯片产业做大做强，服务数字经济更好发展。加强大数据、人工智能、基因技术等新领域新业态知识产权规则研究，助力相关领域创新发展。同时，积极参与知识产权国际规则制定，更好对接高标准国际经贸规则，助力高水平对外开放。

国家知识产权局：加大专利转化运用力度 促进高水平创新

申长雨表示，知识产权保护工作关系高质量发展。将加大专利转化运用力度，完善相关制度设计，促进高水平创新，深化知识产权权益分配改革，加快实施专利开放许可制度，完善专利转化运用市场化机制，促进创新资源高效配置和有序流动，努力将创新优势转化为高质量发展优势。

国家知识产权局：扎实开展知识产权促进“强链”“护链”行动

申长雨表示，当前，新一轮科技革命和产业变革加速演进，在激烈的国际竞争中，我们将聚焦高水平科技自立自强，进一步健全以国家需求和用户满意为导向的专利审查政策，提高审查质量效率，使获权更便利、权利更稳定。同时，扎实开展知识产权促进“强链”“护链”行动，推进专利链与产业链、创新链、资金链、人才链深度融合，推动知识产权贯穿科技研发、技术转移、商业转化和利益分配全链条，促进提升产业链供应链的韧性和安全性。

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